技術コラム/技術情報

紫外線(UV)洗浄装置とは

紫外線(UV)洗浄装置は、UV洗浄によって対象物表面にある有機物汚染の除去、表面改質を行うための装置です。紫外線(UV)洗浄装置は、はじめに低圧水銀ランプから発光する短波長紫外線のエネルギーからオゾンを生成します。その後、発生したオゾンに紫外線の殺菌用光源である254nm波長が照射されると、オゾンは分解されて活性酸素を作り出します。活性酸素は強力な酸化力を持っており、紫外線のエネルギーによって切断された有機汚染質と化学的に結合する事で、二酸化炭素や水などの揮発性物質に分解させて洗浄します。

紫外線（UV）洗浄装置の用途

紫外線(UV)洗浄装置は半導体や電子部品の製造工程などで使用されます。半導体や電子部品の製造工程用途としては、半導体ウェハー、フォトマスク、ガラス基板、光学部品の洗浄などがあります。 樹脂部品では表面改質用途で使われ、その他では 接着、塗装、印刷、蒸着、はんだ等の密着性の向上等の用途で使われております。また、フラットパネルディスプレイを洗浄する場合、エキシマ光を利用した洗浄、大気圧プラズマを応用した洗浄がありますが、UVを用いたオゾン洗浄がなされる場合もあります。 

紫外線（UV）洗浄装置の用途と具体的アプリケーション

①半導体製造装置用UV洗浄装置 (波長：185nm/254nm)

半導体ウエハの洗浄用途で、UV照射装置が用いられています。UVを照射することでオゾンを生成し、オゾンによりウエハ表面の有機物を除去します。

UV照射装置には185nm,254nmの水銀ランプが光源として使用されます。185nmの紫外線は酸素に吸収されることでオゾン(O3)が生成され、活性酸素が発生します。

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②FPD用紫外線(UV)オゾン洗浄装置 (波長：185nm/254nm)

紫外線(UV)を用いたオゾン洗浄は、水銀ランプが用いられ、オゾンによりFPD表面の有機物を除去します。オゾン洗浄装置として半導体ウエハ用UVオゾン洗浄装置がありますが、FPD用はウエハ用と比較して高出力が求められます。また、ウエハと比較しFPDは大きく、照射ヘッドには一般的に、ライン型が用いられます。

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