半導体ウエハ用紫外線(UV)オゾン洗浄装置
| 波長 | 185nm,254nm |
|---|---|
| 用途 | 洗浄・改質 |
| 業界 | 半導体製造 |
| 搭載する装置 | 半導体洗浄装置 |
半導体ウエハの洗浄用途で、UV照射装置が用いられています。UVを照射することでオゾンを生成し、オゾンによりウエハ表面の有機物を除去します。半導体ウエハ用UVオゾン洗浄装置は試作・開発用、量産用があります。試作・開発用は半自動で生産能力が低く、量産用は自動機となります。
UV照射装置には185nm,254nmの水銀ランプが光源として使用されます。185nmの紫外線は酸素に吸収されることでオゾン（O3）が生成され、活性酸素が発生します。
