高スループットの実現とマスク交換時の作業効率化
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製品分類
UV LAMP光源（AT750N-UB）
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装置
コータデベロッパ
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業界
半導体製造
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波長
254nm 365nm 405nm 436nm
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照射エリア
□5ｘ2、5ｘ3、5ｘ4、5ｘ5ｍｍ
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課題
高スループットの実現
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用途
露光
お客様の課題
スループットを上げるためには高強度で照射する必要があります。既存の200Ｗや250Wの紫外線光源装置では出力が足りません。また、製品ごとに露光サイズが異なるため、エリアを決めるマスクを変更する必要があります。マスクを変更するためには、装置側の部品を分解しなければならないため、多くのロス時間が発生してしまいます。
提案・導入効果
光源は高出力の750W光源を選定し、高スループットを実現しています。また、マスクを先端のレンズ内に設置することで交換時のアクセス性が向上しました。従来、ウエハーの種類ごとにマスクを交換する必要がありましたが、同一部品上（レンズ内）に複数サイズのマスクを構成できる設計としました。従来のマスクの交換作業からマスク切り替え作業となり、大幅な時間の短縮となりました。マスク交換時の作業効率向上と保守性向上を実現しています。
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照射ヘッド
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シミュレーション
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照度分布
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照射エリア
設計のポイント
光源装置は光学的な要求仕様と構造的な要求仕様を加味し選定する必要があります。今回はスループット重視という観点から、光源はUVランプ750W、光学系はファイバーを選定しました。750W光源はファイバー入射端に与える熱ダメージが大きく、冷却機能を持たせる必要があります。また、要求仕様からワークディスタンスを長くとり（10mm）、かつマスクを簡単に交換できる構造とするため、光学性能と機械的機能を満足する特殊なレンズを設計しました。
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課題解決事例一覧
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コスト削減・環境負荷低減
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装置
電子部品製造装置
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254nm 365nm 405nm 436nm
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硬化・接着
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波長
365nm
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